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MARC状态:已编 文献类型:中文图书 浏览次数:13

题名/责任者:
表面去污技术及应用/(美) 雷吉维·科里, 卡什米里·拉尔·米塔尔主编 李战国, 李健, 王毅等译
出版发行项:
北京:化学工业出版社,2022.09
ISBN及定价:
978-7-122-41908-8 精装/CNY298.00
载体形态项:
573页, [8] 页图版:图;26cm
统一题名:
Developments in surface contamination and cleaning Vol.11 application of cleaning techniques
个人责任者:
科里 (Kohli, Rajiv) 主编
个人责任者:
米塔尔 (Mittal, K. L.) 主编
个人次要责任者:
李战国
个人次要责任者:
李健
个人次要责任者:
王毅
学科主题:
金属表面清理
中图法分类号:
TG176
出版发行附注:
本书译自原版Developments in Surface Contamination and Cleaning: Applications of Cleaning Techniques并由Elsevier授权出版
书目附注:
有书目
提要文摘附注:
本书详细阐述了超声、可剥离涂层、二氧化碳雪、固体二氧化碳 (干冰) 、液体二氧化碳、超临界二氧化碳、激光、等离子体、紫外-臭氧、静电、高速冲击空气射流、微磨、微生物、离子液体、干蒸汽等一系列表面去污技术原理、工艺参数及其影响因素、应用案例、成本效益和优缺点等, 是对近年来表面去污技术最新进展的全面而系统的总结。这些去污技术不仅在传统工业清冼领域有广泛的应用, 在半导体晶片和集成电路、精密仪器设备、核工业放射性表面污染、食品加工、医疗等特殊领域也有着良好的应用前景。
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索书号 条码号 年卷期 馆藏地 书刊状态 还书位置
TG176/9.7 A1567108   *科技借阅室(逸夫馆)     可借 *科技借阅室(逸夫馆)
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